NTT物性科学基礎研究所

ニュースリリース

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1999年05月20日
超臨界流体によるデバイス加工の超高密度パターン形成法(SRD法)を開発
~ナノメートル級の超微細加工が切り拓く次世代LSIへの道~
NTTニュースリリース