【学　歴】

昭和54年　4月		静岡県立御殿場南高等学校入学
昭和57年　3月		静岡県立御殿場南高等学校卒業
昭和57年　4月		早稲田大学理工学部応用物理学科入学
昭和61年　3月		早稲田大学理工学部応用物理学科卒業
昭和63年　3月		早稲田大学大学院理工学研究科　修士課程修了

【学　位】

博士（工学）

（早稲田大学大学院理工学研究科：　平成8年2月：　論文博士）

【職　歴】

昭和63年　4月		日本電信電話株式会社　入社　LSI研究所　配属
平成08年　7月		日本電信電話株式会社　基礎研究所　勤務
平成11年　1月		日本電信電話株式会社　物性科学基礎研究所　勤務
平成21年　4月		静岡大学　客員教授　（兼務）
平成22年　4月		横浜国立大学　非常勤講師　（兼務）
		この間　平成8年12月〜平成9年12月　M.I.T.客員研究員

【研究歴】

昭和63年4月〜平成8年6月		SiO2/Si界面物性制御の研究
平成08年7月〜現在		シリコンナノデバイス、単電子デバイスの研究

【教育歴】

平成17年7月		慶応義塾大学　理工学部　電子工学科　特別講義
平成23年10月〜現在		横浜国立大学　大学院工学府　電子デバイス特論

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