作製したポジレジストの3次元ナノ構造［(a)、(b)］およびネガレジストの3次元ナノ構造［(c)、(d)］。写真(a)、(b)の組と(c)、(d)の組は各々ステレオグラムで、平行法による立体視が可能。

 　　

電子ビームリソグラフィによる3次元ナノ構造の作製

　

ナノテクノロジ応用が期待できる3次元ナノ構造形成について、電子ビーム(EB)リソグラフィを用いた技術を進展させた。3次元的な位置合わせ（3次元アライメント）の精度を10 nmオーダまで向上し、さらに電子散乱による近接効果を効果的に抑制する方法を実現することで、自由に3次元ナノ構造が作製できることをデモした（27ページ）。

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