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塗布装置の概略 |
立方体上のパターン |
SiO2に転写した細線
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霧を用いた３次元レジスト塗布技術とＳｉ立方体上のナノパターン形成
様々な材料の3次元ナノ加工を目的として、立体試料の表面上にレジストを一括塗布する新たな3次元レジスト塗布技術を開発した。超音波霧発生器によりレジスト溶液の霧を発生させ、細かい霧の準静的な雰囲気中に立体試料を配置することにより、小さい面粗さで均一性良くレジストを塗布することができるようになった。更に、ＳiＯ２/Ｓｉ立方体上に3次元電子ビーム描画を行うことにより、各面上に同様のパターンが形成でき、ＳｉＯ２膜に転写した細線から50nm以下の解像度が得られることを確認した（32ページ）。