西口　克彦

Katsuhiko Nishiguchi
物性科学基礎研究所 量子電子物性研究部

新機能ナノスケールデバイス

2011年4月1日～

平成10年東京工業大学工学部電子物理工学科卒業。平成14年同大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻博士課程終了。同年日本電信電話株式会社に入社、物性科学基礎研究所勤務。現在、同所量子電子物性研究部ナノデバイス研究グループ主任研究員。入社以来、低消費電力化・新機能化を目指したナノ構造のシリコン・デバイスの研究に従事。平成20年9月フランス National Center for Scientific Research(CNRS)客員研究員。平成12年に応用物理学会講演奨励賞、同年 International Conference on Physics of Semiconductors 2000, IUAP Young Author Best Paper Award、同年Materials Research Society 2000 Fall Meeting, Graduate Student Award Silverを受賞。応用物理学会会員。

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